用于微电子行业的 VNX55-E 和 VNX55-EX 膜堆
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大流量膜堆，采用成熟的连续电去离子 (CEDI) 技术来生产高纯水
VNX55-E大流量膜堆采用久经考验的Ionpure® 连续电去离子 (CEDI) 技术来生产高纯度水。为满足微电子行业对高回收率和超纯水的需求，对性能进行了优化。
每台VNX55-E膜堆的名义流量为12.5 m³/h (55 gpm)。
采用多台 12.5 m³/h (55 gpm) 膜堆简化了系统设计，可以实现最高可达 227 m3/h (1,000 gpm) 甚至更大的系统流量。
- 保证实现 18 MΩ-cm 的产水电阻率，针对微电子行业和 超纯水 (UPW) 系统进行了优化
- 硅和硼的去除率 ≥ 95%
- 钠离子和氯离子的去除率 ≥ 99.8%
- 对于抛光回路处理 98.5% - 99% 的回收率和高节水率
- Through-port 垫片密封，无泄漏
- 大流量膜堆可降低系统成本并简化机架设计
- 附带管接头
- 膜堆自带接线盒，用于连接直流电源
- 可提供 50 mm 对焊聚丙烯 (PP) 套件和图纸
- 无需使用酸/碱及中和系统或更换树脂罐
- 与传统离子交换系统相比，极大地降低运行成本